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    本实用新型属玻璃制备领域，涉及tftlcd玻璃制备领域，具体涉及一种tftlcd玻璃面研磨装置。背景技术在浮法tftlcd玻璃生产过程中，玻璃液在锡槽下表面即锡面（锡槽中含有微量氧、锡槽温度1100℃以上），锡极易与氧发生反应（见图1），高温下所生成的氧化锡、氧化亚锡的结构和性质发生了变化